工業廢氣光氧催化設備介紹

 

紫外線廢氣凈化設備用紫外線光束照射三苯基廢氣，將氣體分解成無害物質，可應用于各種環境。紫外廢氣凈化設備主要由框架、紫外燈管、催化劑、預過濾網和電氣元件組成。該設備具有處理效率高、無需添加任何物質、適應性強、運行能力低、占地面積小的特點。

 

在光催化反應區，253.7nm的紫外光首先破壞廢氣中污染物的分子鏈，將其大分子結構分解為小分子結構。185 nm的紫外光使氧氣處于空氣中氧分子產生的自由狀態。由于正電子和負電子的不平衡，游離氧必須與氧分子結合才能產生臭氧。提高低溫等離子一段時間后的治療效果。

 

光催化氧化是光化學和催化氧化方法的升級，它結合了光化學和催化氧化，具有更好的處理效果。而且它不存在催化劑中毒和不能處理成分復雜廢氣的缺陷，運行成本較低，因為在催化劑的作用下可以在中低溫下進行，所以能耗也較低。對于vocs氣體的氣味，甲苯、甲醛、二甲苯等氣體的處理效率可達96%以上。

 

光催化氧化廢氣處理反應的原理是什么？光催化氧化由外部可見光催化，以半導體和空氣為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2、H2O等無毒有害成分。采用人工紫外光波作為能源，經專門處理后，與活性強、響應效率高的納米二氧化鈦催化劑配合使用，惡臭廢氣經處理后可達到更理想的污染效果。

 

廣譜光催化氧化適用于從碳氫化合物到羧酸的各種有機化合物，甚至是原子有機化合物，如鹵代烴、染料、含氮有機化合物和有機磷農藥，只有通過明確的時間響應才能實現完全污染。

 

在半導體光催化氧化反應中，紫外光照射在納米二氧化鈦催化劑上，納米二氧化鈦催化劑吸收光能產生電子躍遷和空穴躍遷，最終結合產生電子空穴對。在光催化氧化的影響下，與廢氣表面吸附的水分(H2O)和氧氣(O2)反應，產生羥基自由基和超氧化物離子自由基，具有非常活躍的氧化波，可以將碳氫化合物、醛類、酚類、醇類、硫醇類、苯類、氨類、氮氧化物、硫化物等VOC有機和無機物質等各種有機廢氣還原成二氧化碳(CO2)、水(H2O)等無毒有害物質。污染后廢氣分子被活化降解，同時臭氣消失，起到廢氣處理的作用。同時，可以有效去除管道中滋生的細菌和病毒。由于光催化氧化反應過程中沒有添加劑，不會產生二次污染。運營成本方面，只使用電能，無需頻繁更換配件，對企業來說是與節能環保相稱的。

 

工業廢氣通過排氣設備輸入凈化設備后，凈化設備利用高能紫外光束和臭氧對工業廢氣進行協同分解和氧化反應，使工業廢氣降解轉化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過排氣管排放到室外。用高能-C束裂解工業廢氣中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，然后用臭氧進行氧化反應，從而完全達到凈化殺菌的目的。考慮到空氣凈化的效率，我們選擇了高電暈電流結合-C波段紫外線和臭氧發射的裝置，并采用脈沖電暈解吸技術的原理來消除有害氣體，其中-C波段紫外線主要用于去除硫化氫、氨、苯、甲苯、二甲苯和二甲苯。